大行揭Intel新製程良率遠低於台積電　低至...

外媒報道，科技分析師Jukan在社交平台上引述報告指出，美國晶片大廠Intel(英特爾)的18A製程(對標台積電2納米)良率僅50%，現正持續提升良率水平。據摩根士丹利報告，英特爾18A良率不及一般認為穩定量產門檻的60%良率，相比之下，台積電良率達80至90%。

除了台積電的良率極高外，南韓業界透露，三星電子的2納米製程良率約55%，與英特爾可謂伯仲之間。另外，英特爾CEO陳立武早前受訪時稱，該企每月良率改善幅度達7至8%。

報告指出，英特爾的先進封裝EMIB則進展快速，晶圓代工業務仍需觀察。在代工方面，蘋果公司似乎是唯一具代表性的知名客戶，公司或於2029年將A系列晶片交予英特爾代工。