陳鳳珠：內地半導體國產替代化持續

市傳中芯國際(00981)正測試由上海初創公司宇量昇開發、用於生產28納米的深紫外線(DUV)光刻機，並利用「多重圖形技術」來生產7納米晶片。宇量昇為深圳市政府資助的半導體設備製造商新凱來的子公司，主要研發半導體設備製造，並主攻光刻機，而新凱來被視為華為在半導體自主化戰略的核心合作夥伴之一。

微影技術為一個投影系統，將晶片電路圖樣印在晶圓上，對晶片的效能與良率有著關鍵影響。其中深紫外光(DUV)微影技術光刻機，光源波長較長，主要生產7納米至28納米半導體晶片；而極紫外光(EUV)微影技術光刻機的光源波長極短，波長為13.5納米，為DUV的十分之一，可支援5納米以下製程。因此，EUV光刻機專為生產最先進、高階的半導體晶片，EUV能製造出更小、更密集的電路，從而提升晶片的效能及效率。今次中芯正測試DUV光刻機，但通常新型DUV需要時間持續調校才能達到量產所需的穩定性和良率，惟今次使用國產光刻機為重大突破，反映內地的科技不斷進步，國產替代趨勢持續。

美國自2018年開始向荷蘭政府施壓，要求ASML停止出口光刻機至內地，2024年9月荷蘭政府表示出口至歐盟以外地區的較先進光刻機等設備，必須獲得荷蘭政府的特別批准，其後ASML表示荷蘭政府公布了浸潤式DUV光刻機出口新規。美國一直從多方面妨礙內地的高科技發展，因為EUV的出口限制，已拖慢內地的高端晶片研發及生產，不過，美國的阻撓只會加快內地的科研發展，並促使內地半導體行業達到全產業鏈國產替代。

內地的高科技企業亦不斷自研晶片，市傳阿里巴巴(09988)旗下半導體公司平頭哥正開發一款新的人工智能晶片PPU，側重AI推理和訓練，且部分參數指標超越了英偉達A800，與H20相當，顯示內地的科技公司和人工智能開發者正積極實現晶片製造全面自主化。

獨立股評人陳鳳珠

(筆者本人並沒有持有上述股票)